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Feature:
| Produktname | Genauigkeit (um) |
Material |
Farbe |
Fotomaske |
±1 |
Glas/Quarz |
transparent |
Fotomaske |
±0.5 |
Glas/Quarz |
transparent |
Fotomaske |
±0.15 |
Glas/Quarz |
transparent |
Fotomaske |
±0.3 |
Glas/Quarz |
transparent |
In der Tabelle werden nur einige Produkte angezeigt, wenn Sie andere Produkte benötigen,
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Physische Anzeige von Glasfotomasken-Lithografieprodukten
Die Maskengrafikdaten werden vom Benutzer entworfen und übermittelt, und die nachfolgende Verarbeitungstechnologie wird vom Ingenieur vervollständigt. Da die Vorbereitung der Grafikdaten ein wichtiger Schritt bei der Maskenverarbeitung ist, müssen die Benutzer die eingereichten Layoutdateien sorgfältig prüfen, um die Korrektheit der Grafiken sicherzustellen.
Herstellungsprozess:
(1) Zeichnen Sie eine Masken-Retikel-Layoutdatei (GDS-Format), die vom Erzeugungsgerät erkannt werden kann
2) Verwenden Sie eine maskenlose Lithografiemaschine, um die Layoutdatei zu lesen, führen Sie eine berührungslose Belichtung (Belichtungswellenlänge 405 nm) auf dem leeren Retikel mit Klebstoff durch und beleuchten Sie den erforderlichen Musterbereich auf dem Retikel, um den Fotolack in diesem Bereich herzustellen. (normalerweise Positivkleber) einer photochemischen Reaktion unterzogen
3) Nach dem Entwickeln und Fixieren löst sich der Photoresist im belichteten Bereich auf und fällt ab, wodurch die darunter liegende Chromschicht freigelegt wird
4) Verwenden Sie eine Chromätzlösung zum Nassätzen, ätzen Sie die freigelegte Chromschicht, um einen lichtdurchlässigen Bereich zu bilden, und die durch den Photoresist geschützte Chromschicht wird nicht geätzt, wodurch ein undurchsichtiger Bereich entsteht. Auf diese Weise werden auf dem Retikel ebene Musterstrukturen mit unterschiedlichen Lichtdurchlässigkeiten gebildet.
5) Verwenden Sie bei Bedarf Nass- oder Trockenverfahren, um die Photoresistschicht auf dem Retikel zu entfernen, und reinigen Sie das Retikel.
Ausstellungsfotos
Zertifikat:
http://de.calibplate-zhixing.com/